6月26日消息，在三星电子尝试重构EUV光刻胶供应链的推动下，东进思密康研发的极紫外光刻胶已于去年底应用于其一条量产工艺线。 。
据相关媒体最新报道，目前已进入三星电子量产线的东进半导体开发的EUV光刻胶，也正在为下一代EUV光刻胶，即高数值紫外光刻胶做准备。光圈。 紫外光刻机（高NA EUV）开发光刻胶。
相关媒体在报道中称，东进世美肯开发了高数值孔径极紫外光刻机投产后所需的光刻胶，以满足ASML等极紫外光刻机量产后的需求。
ASML的高数值孔径极紫外光刻机是他们继推出NXE:3400C、NXE:3600D等型号极紫外光刻机之后开发的新一代产品。 它将继续使用EXE系列的名称。 有两种型号 EXE:5000 和 EXE:5200。
ASML的高数值孔径极紫外光刻机将数值孔径从0.33提升至0.55，并将用于2nm及以下的制程技术。 第一个产品将交给客户进行工艺技术研发。 对于批量生产，预计将于 2025 年开始在客户工厂全面运营。
